Die Mikroelektronik-Landschaft in Sachsen hat Tradition und sie entwickelt sich nach großen strukturellen Umbrüchen, auch und vor allem im Zusammenhang mit der Wiedervereinigung und dem Ende der DDR, erfolgreicher denn je. Weil Zukunft auch immer auf Vergangenem beruht, haben wir es uns zur Aufgabe gemacht, Wissen zu bündeln, Historie zu bewahren und ihr ein Gesicht – oder besser viele Gesichter – zu geben.

Aus diesem Grund haben wir die Silicon Saxony Alumni gegründet, die sich am 26. Oktober 2022 erstmal offiziell getroffen und ausgetauscht haben.

Unser Ziel ist es, einen Alumni-Kreis aufzubauen, der zukünftig bei den folgenden Themen einbezogen werden kann:

* Wir suchen Personen, die aussagefähig zu bestimmten Exponaten sind, ebenso wie jene die nach 1990 nach Sachsen gekommen und bereit sind, ihre damalige Perspektive zu reflektieren.

Rückblick

Von UV zu EUV – Der Weg von ZEISS an die Weltspitze der Lithografie-Optik

Am 23.6.2026 fand bei den Technischen Sammlungen ein Vortrag im Rahmen der Alumni Mikroelektronik zum Thema: „Von UV zu EUV – Der Weg von ZEISS an die Weltspitze der Lithografie-Optik“ statt.

Nach einer kurzen Einführung und Vorstellung des Referenten durch den Kurator Dr. Ralf Pulla begann der Vortrag.

Auf Vermittlung von Dr. Reiner Pforr sprach der Leiter des Bereichs Product Systems Engineering bei der Carl Zeiss SMT GmbH in Oberkochen Dr. Bernhard Kneer.

Kurzbiografie Dr. Bernhard Kneer

„Bernhard Kneer ist Leiter des Bereichs Product Systems Engineering bei der Carl Zeiss SMT GmbH in Oberkochen und damit verantwortlich für die Entwicklung der lithografischen Optiksysteme. Nach seiner Promotion in Physik mit Schwerpunkt Quantenoptik an der Universität Ulm im Jahr 1999 begann er seine Karriere bei ZEISS im Optikdesign. Anschießend wechselte er ins sog. Systems Engineering optischer Systeme. Als Lead Systems Engineer leitete er die Entwicklung des Optiksystems Starlith® 1700i – der weltweit ersten Immersions-Lithografieoptik mit einer numerischen Apertur signifikant größer als 1. Anschließend verantwortete er die Entwicklung der High-NA-EUV-Lithografieoptik, ein entscheidender Schritt für die neueste Generation der Halbleiterfertigung.

Für die Entwicklung der Immersionsoptik wurde Bernhard Kneer 2006 im Team mit dem Deutschen Innovationspreis ausgezeichnet. Seine Arbeit für die Bereitstellung der High-NA-EUV-Lithografieoptik trug maßgeblich dazu bei, dass ZEISS SMT 2020 mit dem Deutschen Zukunftspreis des Bundespräsidenten geehrt wurde.“

Nachdem in einem ersten Teil ein kurzer Überblick über die Entwicklung von Lithografie Systemen von den Anfängen an gegeben und dabei auch auf die Entwicklung in der DDR, durch Carl Zeiss Jena, eingegangen wurde, war der zweite Teil den EUV-Systemen gewidmet.

Die EUV-Lithographie stellt dabei die bislang neueste Innovation dar. Sie ist bereits in der Massenfertigung moderner Hochleistungschips etabliert. Aufgrund der kurzen Wellenlänge erfordert sie ausschließlich reflektive optische Elemente, die vollständig im Vakuum betrieben werden müssen. Das gilt für die Kollektor-Optik, das Beleuchtungssystem als auch für das Projektionsobjektiv. Die begrenzte Reflektivität der Spiegel erfordert eine Minimierung der Anzahl optischer Elemente und damit im Vergleich zur klassischen DUV-Lithographie grundlegend neue Systemarchitekturen.

Mit der gegenwärtig in Einführung befindlichen sog. High-NA-EUV-Lithographie wird eine Steigerung der Auflösung auf etwa 8nm erzielt. Die erhöhte numerische Apertur erfordert optische Systeme mit erheblich vergrößerter Geometrie und vergrößerten Spiegeln, Anforderungen an die räumliche Positionierung derselben im sub-nm-Bereich und in Konsequenz extremen Anforderungen an Fertigung und Metrologie. Parallel zur Optik-Systementwicklung muss hierfür eine neue industrielle Fertigungsinfrastruktur entwickelt werden, die entsprechende Prozessanlagen sowie Metrologie-Systeme umfasst.

Dabei wurde auch die Rolle der niederländischen Firma ASML als bedeutendes europäisches Unternehmen der Anlagenherstellung, der die Optiksysteme in seinen Lithografie Anlagen für die Chipindustrie verwendet, erklärt.

„Die ASML Holding N.V. (Advanced Semiconductor Materials Lithography) ist ein niederländisches multinationales Unternehmen und der weltweit größte Anbieter von Lithographie Systemen für die Halbleiterindustrie. Die sehr komplexen Maschinen spielen eine wichtige Rolle bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen; die meisten Mikrochip-Hersteller (Foundries und IDMs) sind ASML-Kunden.“  [Wikipedia]

Im Bereich der EUV-Technik ist ASML weltweit der einzige Anbieter.

Es war ein sehr interessanter Vortrag zu dem ca. 70 Besucher gekommen sind! Trotz des sehr anspruchsvollen Themas, gab es im Nachgang noch eine sehr angeregte Diskussion mit vielen Fragen.

>> Link zu Online-Bericht über Veranstaltung

Sie waren früher beruflich in der sächsischen Mikroelektronik aktiv oder kennen jemanden, der hier aktiv war?
Dann kontaktieren Sie uns gern!

alumni@silicon-saxony.de