„KI-Infrastrukturen erfordern Speicherlösungen, die eine deutlich höhere Speicherdichte, größere Bandbreite und verbesserte Energieeffizienz bieten“, sagte , Präsident und CEO von Applied Materials. „Indem wir das fundierte Fachwissen von KIOXIA im Bereich der Speichertechnologie mit den Innovationen von Applied im Bereich der Werkstofftechnik im EPIC Center zusammenführen, schaffen wir eine starke Partnerschaft, um die Möglichkeiten von Speichern der nächsten Generation zu definieren.“
„Bei KIOXIA waren wir schon immer davon überzeugt, dass die Möglichkeiten von Speichern durch die Fähigkeit bestimmt werden, die Grenzen der Material- und Prozessinnovation zu erweitern“, sagte , Präsident und CEO von . „Unsere Zusammenarbeit mit Applied Materials spiegelt unser gemeinsames Engagement für die Förderung von Innovationen im Speicherbereich wider, und wir freuen uns darauf, im EPIC Center gemeinsam bahnbrechende Fortschritte zu erzielen.“
Im Rahmen der EPIC-Center-Partnerschaft werden Applied Materials und KIOXIA bei Forschungs- und Entwicklungsinitiativen zusammenarbeiten, die sich auf die entscheidenden Herausforderungen bei der Entwicklung von Speichern der nächsten Generation konzentrieren. Zu den Schwerpunkten gehören:
- Entwicklung fortschrittlicher Speicherzellen und -strukturen zur Schaffung leistungsfähigerer Speicherarchitekturen mit höherer Speicherdichte für KI-Anwendungen
- Multi-Chip-Stapelung für Speicher der nächsten Generation, um eine Chip-Integration zu ermöglichen, die die Speicherdichte und -leistung innerhalb begrenzter Formfaktoren erhöht
- Fortschrittliche Verpackungstechniken für gestapelte Speicher zur Verbesserung der Integration und der Verbindungsleistung in komplexen Multi-Die-Speicherlösungen
- Innovationen in der Werkstofftechnik, die Speicherstrukturen der nächsten Generation ermöglichen und gleichzeitig die Herstellbarkeit im großen Maßstab unterstützen
„Speicher stehen im Mittelpunkt der Innovationsroadmap für KI, und die Herausforderungen, die Speicherdichte zu erhöhen und gleichzeitig Kosten und Komplexität zu bewältigen, erfordern Durchbrüche in den Bereichen Material-, Anlagen- und Prozesstechnologie“, sagte Dr. , Präsident des bei Applied Materials. „Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit KIOXIA im EPIC Center, wo unsere Teams durch intensive gemeinsame Innovation Fortschritte bei KI-Speichern vorantreiben werden.“
„Die Partnerschaft mit Applied Materials im EPIC Center bietet uns ein einzigartiges Umfeld, um die größten Herausforderungen im Bereich der Speicher der nächsten Generation anzugehen“, sagte [Name], General Manager bei KIOXIA. „Indem führende Innovatoren von KIOXIA und Applied Materials Seite an Seite arbeiten, wollen wir die Kommerzialisierung bahnbrechender Fortschritte bei Speicher- und Verpackungstechnologien beschleunigen, die neue Maßstäbe hinsichtlich Integration und Leistung für KI-Computing setzen.“
Das neue * EPIC-Zentrum (Equipment and Process Innovation and Commercialization) von Applied Materials in stellt die bislang größte Investition in die Forschung und Entwicklung fortschrittlicher Halbleiterausrüstung dar. Das Zentrum, das noch in diesem Jahr betriebsbereit sein wird, wurde von Grund auf so konzipiert, dass die Zeit bis zur Markteinführung bahnbrechender Technologien – von der frühen Forschungsphase bis zur Serienfertigung – drastisch verkürzt wird. Für Chiphersteller wird das EPIC-Center in einer sicheren Kooperationsumgebung einen früheren Zugang zum Forschungs- und Entwicklungsportfolio von Applied, schnellere Lernzyklen und einen beschleunigten Transfer von Technologien der nächsten Generation in die Massenfertigung ermöglichen. Darüber hinaus werden die gemeinsamen Innovationsprogramme im EPIC-Center Applied eine umfassendere, über mehrere Knotenpunkte hinweg reichende Transparenz verschaffen, um Forschungs- und Entwicklungsinvestitionen zu steuern und gleichzeitig die Produktivität in der Forschung und Entwicklung sowie die gemeinsame Wertschöpfung zu steigern.
*Es wird erwartet, dass sich die Investitionsausgaben im Laufe der Zeit auf etwa 5 Milliarden US-Dollar erhöhen, sobald Kundenprojekte anlaufen.
Zukunftsgerichtete Aussagen
Diese Pressemitteilung enthält zukunftsgerichtete Aussagen, darunter Aussagen zu den Investitions- und Wachstumsstrategien von Applied, zur Entwicklung neuer Materialien und Technologien, zu Branchenaussichten und technologischen Anforderungen, zu den Plänen und Erwartungen für das EPIC Center sowie weitere Aussagen, die keine historischen Fakten darstellen. Diese Aussagen und die ihnen zugrunde liegenden Annahmen unterliegen Risiken und Ungewissheiten und stellen keine Garantie für zukünftige Leistungen dar. Zu den Faktoren, die dazu führen könnten, dass die tatsächlichen Ergebnisse wesentlich von den in solchen Aussagen ausgedrückten oder implizierten Ergebnissen abweichen, gehören unter anderem: die Nachfrage nach Halbleitern und die technologischen Anforderungen der Kunden; die Fähigkeit, neue und innovative Technologien zu entwickeln; die Fähigkeit, Rechte an geistigem Eigentum an Schlüsseltechnologien zu erwerben und zu schützen; die Fähigkeit, die Ziele des EPIC Center zu erreichen; sowie weitere Risiken und Ungewissheiten, die in den bei der Securities and Exchange Commission eingereichten Unterlagen von Applied beschrieben sind, einschließlich der jüngsten Formulare 10-K, 10-Q und 8-K von Applied. Alle zukunftsgerichteten Aussagen basieren auf den aktuellen Schätzungen, Prognosen und Annahmen der Unternehmensleitung, und Applied übernimmt keine Verpflichtung, diese zu aktualisieren.
Über Applied Materials
Applied Materials, Inc. (Nasdaq: AMAT) ist der Marktführer für materialtechnische Lösungen, die die Grundlage für praktisch jeden neuen Halbleiter und jedes moderne Display weltweit bilden. Die von uns entwickelten Technologien sind unerlässlich für den Fortschritt im Bereich der künstlichen Intelligenz und die Beschleunigung der Kommerzialisierung von Chips der nächsten Generation. Bei Applied Materials erweitern wir die Grenzen von Wissenschaft und Technik, um Materialinnovationen zu entwickeln, die die Welt verändern.
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Weiterführende Links
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