16. Mai 2025. AlixLabs freut sich bekannt zu geben, dass das US-Patent- und Markenamt die Zulassungsbescheinigung für die neueste Patentanmeldung des Unternehmens, US20250087487A1, mit dem Titel „Formation of an array of nanostructures“ (Bildung einer Anordnung von Nanostrukturen) erteilt hat. Dieser Meilenstein markiert den nächsten Schritt in AlixLabs‘ Engagement für die Weiterentwicklung von Halbleiterfertigungstechnologien.
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Das neue Patent, das intern zu Ehren von Alexey Pajitnov als „Tetris“-Patent bezeichnet wird, integriert die selbstausrichtende Doppelstrukturierung (SADP) mit der auf Atomlagenätzen (ALE) basierenden Pitch-Splitting-Technologie (APS™). Dieser innovative Ansatz, der seit der Gründung von AlixLabs im Jahr 2019 industrialisiert wird, kombiniert Elemente klassischer und modernster Techniken, um eine überlegene Leistung für die Halbleiterfertigung zu erzielen.
Die Erfindung entstand aus den Bemühungen von AlixLabs, einen Prozess zur präzisen Steuerung des Seitenwandwinkels in APS™ zu entwickeln, einer Schlüsselkomponente in siliziumbasierten Prozessen. Durch die Nutzung der Selektivität des Plasmaätzprozesses und die Kombination von Merkmalen komplexer Plasmaprozesse hat AlixLabs eine Methode entwickelt, die den traditionellen SADP-Prozess mit der fortschrittlichen APS-Technologie verbindet.
Dadurch kann das Unternehmen ausgereifte Industrietechnologien nutzen und gleichzeitig von der fortschrittlichen Steuerung und verbesserten Leistung zyklischer Prozesse und der topografischen Selektivität profitieren. Damit bietet die Lösung von AlixLabs Halbleiterherstellern eine verbesserte Möglichkeit, die Herausforderungen der Strukturierung bei Knoten unter 5 nm zu bewältigen.
Dieser Durchbruch ist von großer Bedeutung für die Integration der APS™-Technologie in bestehende Halbleiterfertigungsabläufe, da die Verwendung bestehender Prozessdesign-Kits (PDKs) beibehalten werden kann, die für Chip-Designer unverzichtbare Werkzeuge sind. Dadurch werden die Hindernisse für den Einsatz von APS in der Massenfertigung (HVM) verringert und der Übergang zu Halbleitertechnologien der nächsten Generation erleichtert.
Die patentierte Innovation bietet Halbleiterherstellern mehr Flexibilität und eine neue Möglichkeit, den APS™-Prozess genau auf die Anforderungen der Kunden an fortschrittlichen Technologieknoten abzustimmen, um Kapital- und Betriebsausgaben (CapEx und OpEx) sowie Emissionen zu senken und gleichzeitig eine breitere Kompatibilität mit verschiedenen Materialien zu ermöglichen. Diese neue Methode stärkt das Kernportfolio von AlixLabs im Bereich APS™-Patente weiter und positioniert das Unternehmen als führenden Enabler für die Halbleiterfertigung der nächsten Generation.
Darüber hinaus unterstützt diese Erfindung nicht nur die Entwicklung von modernster Logik, Speicher und Photonik, sondern vereinfacht auch den Halbleiterfertigungsprozess durch die Reduzierung von CapEx und OpEx für Halbleiterfabriken.
„Wir sind weiterhin bestrebt, die Halbleiterfertigung mit Innovationen voranzutreiben, die die Präzision, Flexibilität und Effizienz unserer Technologien erheblich verbessern“, kommentierte Dmitry Suyatin, Mitbegründer und CTO von AlixLabs. „Dieses Patent ist ein wichtiger Schritt vorwärts in unserer Mission, die nächste Generation von Halbleiterprozessen voranzutreiben und unsere Position als Marktführer in diesem Bereich weiter zu festigen.“
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Foto: Alixlabs
