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SONOSYS Ultraschallsysteme GmbH
Kleine Unternehmen (<50 Mitarbeiter:innen oder <10 Mio. Jahresumsatz)
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Maschinen & Anlagen
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Forschung & Entwicklung·Maschinen & Anlagen·Technologie
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Elektronik·Equipment·Halbleiterindustrie·Megaschall·Megasonic·Mikro- / Nanoelektronik·nanoclean·Ultraschall-Reinigungssysteme·Ultrasonic / Megasonic
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Daimlerstraße 6
75305 Neuenbürg
75305 Neuenbürg
+49 7082 79184 0
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Über das Mitglied
SONOSYS® ist spezialisiert auf die Entwicklung, Herstellung und den Vertrieb hochentwickelter Ultraschall-/Megaschallsysteme für Single-Wafer- und Batch-Prozesse im Frequenzbereich von 400 kHz bis 9 MHz.
SONOSYS® Ultraschall-/Megaschallsysteme ermöglichen die hocheffiziente Abreinigung von Partikeln bis in den Nanometerbereich von Substraten mit empfindlichen Oberflächen, wie z.B. Wafern, Masken oder Mikrosystemen.
Unsere Hauptmärkte:
- Halbleiterindustrie
- Mikro-/Nanotechnologie
- MEMS
- Photovoltaik
- Optische Industrie
- Lebensmittelindustrie
- Sonochemie
- Forschungsinstitute
Unsere Hauptanwendungen:
- Partikel-Entfernung
- SC1-Reinigung
- Resist-Entfernung
- Nassätzen
- Post-CMP-Reinigung
- Akustisch-chemische Anreicherung
SONOSYS®-Systeme:
- Megasonic Transducerplatten
- Tauchschwinger
- Face-to-Face-Transducer
- Megasonic Single-/Dual-/Triple-Düsen
- Schlitzdüsen
- Megasonic Generatoren
- Zerstäuber
4" Megasonic-Tauchschwinger aus Edelstahl mit 500 W Generator
Megasonic Tauchschwinger Systeme, 400 kHz bis 2 MHz
Flexibel und kostengünstig nachrüsten mit Megasonic Tauchschwingern 400 kHz + 600 kHz / 1 MHz + 2 MHz
Völlig gekapselte Transducer aus Edelstahl oder Kunststoff (z.B.: PVDF und PFA) zur Platzierung am Boden oder der Seitenwand in vorhandenen Bädern. Neben den Standardausführungen für 4″, 6″ und 8″ Substrate können die Abmessungen der Tauchschwinger auch kundenspezifisch ausgelegt werden. Sie stehen in den Ultraschallfrequenzen von 400 kHz / 600 kHz / 1 MHz und 2 MHz zur Verfügung.
Diese äußerst flexible Ausführung ermöglicht ein kostengünstiges Nachrüsten von Prozessbecken mit einem Megasonic System.
Anwendung:
Reinigung von Substraten, Halbleiterwafern, Mikroteilen und Mikrosystemen, sowie Masken bis 200 mm. Unterstützung des Entwicklungsprozesses in der »LIGA-Technik«, sowie von Ätzprozessen.
Megasonic Tauchschwinger System, 4 Zoll, Edelstahlausführung
