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FAP GmbH Dresden
Kleine Unternehmen (<50 Mitarbeiter:innen oder <10 Mio. Jahresumsatz)
Zielmärkte
Elektronik·Maschinen & Anlagen
Branchen
Maschinen & Anlagen·Vorgelagerte Industrie
Portfolio
ALD·Anlagen (PECVD·Applikationen·Auftragsbeschichtung·Elektrodensysteme·Equipment··FAP GmbH·Forschung und Entwicklung·Halbleiterindustrie·HF·HF-Technik·Kalibrierung·MFC·Mikro- / Nanoelektronik·MOCVD·PECVD·Plasma-CVD·Plasma-Technik·Plasmaquellen·Service (Reparatur·Technologie (Auftragsbeschichtung)·Umwelttechnologie·Vertrieb von HF-Technik und MFC)
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Gostritzer Str. 67
01217 Dresden
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+49 351 871 8110
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Über das Mitglied
Durch langjährig erfahrene Mitarbeiter auf dem Gebiet der Hochfrequenztechnik, der Gas-, Mess- und Regeltechnik und der technischen Plasmaanwendung sind wir in der Lage, eine bestmögliche Unterstützung unserer Kunden durch unseren leistungsfähigen Service und den Verkauf von Generatoren und Anpassungen der Hochfrequenz-Leistungstechnik und von Gasflussreglern zu bieten.
HF-Leistungsversorgungen und MFC gehören zu den unmittelbar prozess-bestimmenden peripheren Anlagenkomponenten im Halbleiterprozess. Wir sorgen dafür, dass diese Geräte den Zertifikaten, Kalibrierkurven oder durch eine exakte Abstimmung auf die Maschine, den technischen Vorgaben der Hersteller entsprechen. Mitgelieferte Messprotokolle unterstützen diesen Prozess.
Wir bemühen uns, unsere Kunden bei der Lösung ihrer Aufgaben, innerhalb einer Reaktionszeit von 24h und durch umfassende Hilfestellungen zu unterstützen. Der direkte Austausch mit unseren Geschäftspartnern ist dabei für uns besonders wichtig.
Aus langjähriger Tätigkeit in Forschung und Entwicklung zur Dünnschicht-technologie, Plasma- und Hochfrequenztechnik resultieren unser Know how und unsere Kompetenz auf dem Gebiet der plasmachemischen Gasphasenabscheidung (Plasma-CVD) und der plasmaunterstützten ALD/ ALE (PEALD/PEALE) dünner Schichten für optische, elektronische und mechanische Anwendungen und unsere Erfahrungen im Umgang mit gefährlichen Gasen. Ebenso gehört das Plasmaätzen von Schichten für definierte Oberflächeneigenschaften zu unserem Angebotsspektrum. Die enge Zusammenarbeit mit unseren Kunden zur Realisierung effizienter Technologien zur plasmachemischen Oberflächenbearbeitung ist Grundsatz unseres Unternehmenskonzepts.
Eine Kooperation mit kompetenten Lieferanten von Anlagen der Vakuum-Dünnschicht-Technik und relevanten Anlagenkomponenten zählt ebenfalls zu unserem Netzwerk wie auch die enge Zusammenarbeit mit Forschungseinrichtungen und Hochschulen.
HF-Leistungsversorgungen und MFC gehören zu den unmittelbar prozess-bestimmenden peripheren Anlagenkomponenten im Halbleiterprozess. Wir sorgen dafür, dass diese Geräte den Zertifikaten, Kalibrierkurven oder durch eine exakte Abstimmung auf die Maschine, den technischen Vorgaben der Hersteller entsprechen. Mitgelieferte Messprotokolle unterstützen diesen Prozess.
Wir bemühen uns, unsere Kunden bei der Lösung ihrer Aufgaben, innerhalb einer Reaktionszeit von 24h und durch umfassende Hilfestellungen zu unterstützen. Der direkte Austausch mit unseren Geschäftspartnern ist dabei für uns besonders wichtig.
Aus langjähriger Tätigkeit in Forschung und Entwicklung zur Dünnschicht-technologie, Plasma- und Hochfrequenztechnik resultieren unser Know how und unsere Kompetenz auf dem Gebiet der plasmachemischen Gasphasenabscheidung (Plasma-CVD) und der plasmaunterstützten ALD/ ALE (PEALD/PEALE) dünner Schichten für optische, elektronische und mechanische Anwendungen und unsere Erfahrungen im Umgang mit gefährlichen Gasen. Ebenso gehört das Plasmaätzen von Schichten für definierte Oberflächeneigenschaften zu unserem Angebotsspektrum. Die enge Zusammenarbeit mit unseren Kunden zur Realisierung effizienter Technologien zur plasmachemischen Oberflächenbearbeitung ist Grundsatz unseres Unternehmenskonzepts.
Eine Kooperation mit kompetenten Lieferanten von Anlagen der Vakuum-Dünnschicht-Technik und relevanten Anlagenkomponenten zählt ebenfalls zu unserem Netzwerk wie auch die enge Zusammenarbeit mit Forschungseinrichtungen und Hochschulen.
Wir bieten Lösungen für die plasmachemische Gasphasenabscheidung (Plasma-CVD) von Schichten mit definierten mechanischen, optischen und elektronischen Eigenschaften, die Plasmapolymerisation, MOCVD und ALD sowie zu Komponenten der Hochfrequenzleistungstechnik.
- Anlagen (PECVD, MOCVD, ALD, Plasmaquellen, Elektrodensysteme)
- Service (Reparatur, Kalibrierung, Vertrieb von HF-Technik und MFC)
Technologie (Auftragsbeschichtung)
Darüber hinaus unterstützen wir unsere Kunden mit 24h-Service und umfassendem Personaltraining.
FAP GmbH im TechnologieZentrumDresden - Standort Süd
Aus 20-jähriger Erfahrung und Tätigkeit in Forschung und Entwicklung zur Mikroelektronik, Halbleitertechnologie, Plasma- und Hochfrequenztechnik resultiert unser Know-how und unsere Kompetenz für die Entwicklung und Fertigung von kundenspezifischen, technologieorientierten Sonderanlagen, Systemen und Komponenten für die Dünnschichttechnik sowohl für den Forschungs- und Entwicklungsbereich als auch die industrielle Produktion.
