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boltzplatz – numerical plasma dynamics GmbH
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Mit Hilfe der Open-Source Plasmasimulationssoftware PICLas können Elektronen- und Ionenstrahlen unter Einfluss externer elektromagnetischer Felder sowie der Eigenfelder der geladenen Teilchen untersucht werden. Der Einfluss der angelegten Spannung, Magnetfelder und Ionizationsprozesse auf die Strahgeometrie können ohne teure Experimente untersucht werden:
- Einfluss von Montagetoleranzen – Wie wirkt sich eine gekippte Kathode auf die Geometrie des Elektronenstrahls aus?
- Einfluss des Hintergrunddrucks – Was passiert, wenn der Elektronenstrahl Regionen mit unterschiedlichem Druck durchquert?
- Auswirkungen der angelegten Potenziale und des Strahlstroms – Wie wirken sich die Potenzialdifferenz und der Strom auf die Strahlgeometrie und ihre Energieverteilung aus?
- Einfluss des Magnetfelds – Wie kann das Magnetfeld weiter optimiert werden, um einen fokussierten Elektronenstrahl am Ziel zu erreichen?
Mehr Informationen anhand eines Beispiel aus der Vakuum-Beschichtungstechnik finden Sie hier: Kinetische Simulation einer Hochleistungs-Elektronenkanone
